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电子级溴化氢制备及杂质去除技术

杭州安研流体设备有限公司
法人:查汪俊通过主体资质核查

杭州安研流体设备,位于杭州临平区,2025年成立,专营精馏塔等设备,专业研发生产高端智能设备,经验丰富权威性强。

介绍:

电子级溴化氢(HBr)的制备及高纯化技术,这是一个在半导体和光电领域非常专业且重要的课题。电子级HBr主要用于芯片制造中的蚀刻和清洗工艺,其纯度直接影响到器件的良率和性能。广泛应用于半导体、集成电路制造等领域,对其纯度要求极高。

因此其制备及杂质去除技术至关重要。为你详细介绍相关内容:

1.制备方法

• 氢气与溴燃烧法:让氢气和溴在高温条件下发生燃烧反应生成溴化氢。该方法能制备出高纯度的溴化氢,是大规模生产电子级溴化氢的主要方法。不过,该方法需要精确控制反应条件,如温度、氢气与溴的比例等,以保证产品质量和安全性。

• 溴化物水解法:利用溴化物水解来产生溴化氢。这种方法的反应条件相对温和,但可能存在水解不完全、产物分离困难等问题,通常适用于小规模制备或特定需求的生产。

• 溴化钠酸化法:使用浓磷酸与溴化钠固体在加热条件下反应生成溴化氢。反应原理为NaBr+H3PO4(浓)= ⁣= ⁣=NaH2PO4+HBr↑NaBr + H₃PO₄(\text{浓})\stackrel{\triangle}{=\!=\!=}NaH₂PO₄ + HBr↑NaBr+H3​PO4​(浓)===NaH2​PO4​+HBr↑。该方法不能用浓硫酸代替浓磷酸,因为浓硫酸会氧化溴化氢,发生2HBr+H2SO4(浓)= ⁣= ⁣=Br2↑+SO2↑+2H2O2HBr + H₂SO₄(\text{浓})=\!=\!=Br₂↑ + SO₂↑ + 2H₂O2HBr+H2​SO4​(浓)===Br2​↑+SO2​↑+2H2​O反应。此方法操作相对简单,但产物纯度可能受原料纯度和反应条件影响。

杂质去除技术

• 物理吸附法:借助吸附剂的吸附作用去除溴化氢中的杂质。大连理工大学化工学院刘家旭副教授团队开发的分子筛基催化技术,制备出全结晶吸附材料,用于去除电子级溴化氢中的水杂质,能将水杂质含量控制在0.1ppm以下,且制备工艺实现零重金属催化剂残留。该方法工艺简单、除杂效率高,是主要的杂质去除技术之一,但吸附剂的吸附容量和再生性能会影响其使用效果和成本。

• 化学除湿法:通过特定的化学反应将溴化氢中的水分或其他杂质转化为易于分离的物质,从而达到去除杂质的目的。不过,该方法可能会引入新的杂质,需要后续进一步处理。

• 膜分离法:利用具有选择性透过性能的膜,让溴化氢与杂质在膜两侧形成浓度差,使溴化氢选择性地透过膜,实现与杂质的分离。这种方法节能方便,具有较大的发展潜力,但膜的性能和成本是限制其广泛应用的关键因素。

• 精馏法:依据溴化氢与杂质的沸点差异,通过多次蒸发和冷凝过程实现分离。福建久策气体股份有限公司发明的电子级溴化氢精馏纯化方法,采用包括一级精馏塔和二级精馏塔的精馏纯化设备,能将纯度为99.5%的工业溴化氢纯化获得电子级高纯溴化氢。该方法工艺成熟、除杂效果好,是常用的杂质去除技术,但能耗相对较高。

• 金属离子杂质控制:金宏气体申请的专利涉及一种高纯电子级溴化氢金属离子杂质控制装置及控制方法,通过在现有工艺系统上增加金属离子的除尘器装置并对其结构进行设计,实现对液体进行固液分离以截留金属颗粒物;同时对吸附设备和精馏设备的结构进行设计,实现气相金属杂质的脱除和液相金属杂质的脱除,增加了金属颗粒物的去除效率和去除效果。

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