等离子刻蚀机方案

华仪行(北京)科技有限公司

2026-08-27 09:30:18

法人:李玉红通过深度核验

华仪行（北京）科技，2014年成立于北京丰台，专注等离子清洗机等仪器，技术领先，服务专业，经验丰富，权威可靠。

导读：

本文介绍等离子刻蚀机的工作原理、应用场景及技术优势，帮助读者理解这一精密加工设备在半导体和微电子制造中的关键作用。

一、等离子刻蚀机的工作原理

等离子刻蚀机利用高频电场激发气体产生等离子体，通过化学反应和物理轰击去除材料表面特定部分。这一过程像用纳米级雕刻刀在硅片上作画，精度可达纳米级别。常见的气体组合包括氟基、氯基等，不同气体针对不同材料（如硅、二氧化硅）具有选择性。

相较于湿法刻蚀，等离子刻蚀具备各向异性强、线宽控制精准、环保性好等特点。当前技术正向更高刻蚀速率、更低损伤方向发展，原子层刻蚀（ALE）技术可实现单原子层移除精度，为3D NAND等先进器件提供可能。

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