光刻机禁令时间线
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上海泽镜科技有限公司,2021年成立于河北省廊坊市,主营扫描电镜、能谱一体机等,产品多样,权威可靠。
导读:
本文梳理光刻机禁令的关键时间节点,解析2018年美国对华半导体设备限制的起始背景,以及荷兰ASML对EUV光刻机出口管控的演变过程,帮助读者理解技术封锁的来龙去脉。
一、禁令的起源
2018年4月,美国商务部将半导体设备列入对华技术出口管制清单,这是光刻机限制的雏形。就像突然给科技交流按下了暂停键,当时主要针对10nm以下先进制程设备,而真正的转折点在2019年——荷兰ASML的EUV光刻机被明确禁止向中国企业交付。
二、关键时间节点
- 2019年7月:首台已售EUV光刻机(型号NXE:3400C)在运输前被荷兰政府扣留
- 2020年1月:美国施压导致荷兰延长出口许可审查期
- 2022年10月:新规扩大至部分DUV光刻机(1980Di型号)
三、当前管控范围
现在受限的不只是最高端的EUV系统,连能生产7nm芯片的DUV浸润式光刻机也纳入管制。不过成熟工艺用的干式DUV设备(如NXT:2050i)仍可正常出货,这种精准打击的策略,就像只封锁高速公路却保留国道通行。
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