电路板金属化孔工艺
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导读:
本文详解电路板金属化孔工艺流程,从钻孔准备到最终检测,完整解析孔壁导电层形成的核心步骤与技术要点,帮助理解PCB制造中的关键环节。
一、钻孔与孔壁预处理
想让电路板上的孔洞变身'金属通道'?第一步就像给墙壁刷漆前要打磨墙面:
- 精密钻孔:用0.1-0.3mm钻头在覆铜板上打出通孔,孔壁会留下树脂毛刺
- 去钻污:先用碱性溶液溶解孔壁树脂残渣,再用等离子体清洗微孔
- 活化处理:让孔壁吸附钯催化剂粒子,为后续化学镀铜做准备
二、化学镀铜构建基础
孔壁上的'金属种子'如何长成连续导电层?这个微观变化过程很有趣:
- 化学镀铜:孔壁钯粒子触发溶液中的铜离子还原,形成0.3-0.5μm铜层
- 厚度控制:保持溶液温度28℃±1℃,沉积速度约1μm/15分钟
- 特殊结构:沉积的铜层呈现柱状晶结构,比电解铜附着力更强
三、电镀加厚与品质控制
基础铜层就像骨架,还需要'肌肉'来强化:
- 全板电镀:将整板浸入酸性镀铜槽,孔内铜层加厚至20-25μm
- 图形电镀:通过掩膜选择性二次加厚,使导电线路更牢固
- 品质检测:用背光仪检查孔壁铜层完整性,阻抗测试确保导电性能
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