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薄膜中的ALD是什么
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深圳市佳杰伟业科技有限公司
深圳市佳杰伟业科技有限公司，2011年成立于广东省深圳市，主营微芯、ST等，专业权威，经验丰富。
介绍：
本文解析薄膜制备中的ALD技术原理，通过三明治式原子层沉积过程、精准膜厚控制优势以及在半导体领域的典型应用场景，帮助读者理解这一纳米级镀膜技术的核心价值。
一、ALD技术的三明治原理
原子层沉积(Atomic Layer Deposition)就像制作分子级三明治：
交替反应：先通入A前驱体气体，在基材表面形成单层吸附
吹扫清洁：用惰性气体冲走多余分子，避免气相反应
反向反应：引入B反应气体，与吸附层完成化学反应
循环叠加：重复100-300次获得10nm均匀薄膜
这种自限制生长机制，让每个循环只沉积0.1nm厚度，比传统CVD精准10倍。
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