SiC晶圆等离子清洗

上海茂虹等离子技术有限公司

2026-07-09 16:52:27

上海茂虹等离子技术有限公司

法人:周兆文通过真实性核验

上海茂虹等离子技术有限公司，2014年成立于上海市，主营等离子清洗机、等离子表面处理机等，产品多样，权威可靠。

介绍：

本文解析SiC晶圆表面等离子清洗工艺的技术要点，包括其原理优势、具体操作流程以及常见问题解决方案，帮助读者全面了解这一关键制程技术。

一、等离子清洗为何受青睐

SiC晶圆表面常残留有机污染物和氧化物，传统湿法清洗面临挑战。等离子清洗通过电离气体产生高活性粒子，能高效去除纳米级污染物，且不损伤晶格结构。这种干法工艺特别适合SiC这种硬脆材料，清洗后表面能提升30%以上，为后续镀膜工艺创造理想条件。

• 气体配比决定清洗选择性：氧含量过高会氧化SiC表面

• 射频功率与均匀性相关：需根据腔体尺寸优化电极设计

• 温度控制至关重要：超过200℃可能引发表面重构

• 批次间稳定性保障：定期校准等离子体密度检测仪

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