中国光刻机纳米级水平

北京长恒荣创科技有限公司

2026-06-28 10:35:19

北京长恒荣创科技有限公司

法人:翟会宾通过深度核验

北京长恒荣创科技有限公司，2010年成立于北京市，主营显微镜、显微镜热台等，专业权威，经验丰富。

介绍：

本文探讨中国目前能够生产的光刻机技术节点，分析国内光刻机研发的现状、技术突破及与先进水平的差距，帮助读者了解中国在这一关键领域的真实能力。

一、国内光刻机技术现状

中国目前在光刻机领域已实现从无到有的突破，能够自主生产的光刻机技术节点主要集中在90纳米及以上工艺。上海微电子装备有限公司（SMEE）推出的SSA600系列光刻机可支持90纳米工艺制程，这是目前国内较先进的量产机型。值得注意的是，这一技术水平已能满足部分中低端芯片的制造需求。

近年来，中国在光刻机关键技术研发方面取得多项进展：

这些技术积累为向更先进节点迈进奠定了基础。

相比ASML已量产的3纳米EUV光刻机，中国在光刻机领域仍存在明显代际差距。这种差距主要体现在：

不过，在传统DUV光刻机领域，国内企业正逐步缩小与日本尼康、佳能的差距。

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