半导体清洗工艺用水

一、超纯水：清洗工艺的基石

在半导体CLN（清洗）工艺中，超纯水（UPW）如同手术室里的无菌水，承担着最基础的清洁任务。它的电阻率需达到18.2MΩ·cm，比饮用水的纯净度高百万倍，确保不会引入任何金属离子或颗粒污染物。这类水主要用于：

• 晶圆预清洗：去除表面宏观污染物

• 设备漂洗：冲洗化学药剂残留

• 稀释溶液：配制特定浓度清洗剂

二、功能型水溶液的秘密配方

除了超纯水，CLN工艺还会使用经过特殊处理的功能水：

1. SC1溶液：氨水与双氧水的混合液，能选择性去除有机污染物

2. SC2溶液：盐酸与双氧水组合，专攻金属离子去除

3. 氢氟酸稀释液：用于剥离氧化层，浓度需精确到0.5%以下

4. 臭氧水：新型环保清洗介质，可分解顽固有机物

三、水处理系统的技术逻辑

这些特殊用水的制备遵循精密控制原则：

• 多层过滤：从反渗透到紫外线杀菌的7道工序

• 在线监测：实时追踪TOC（总有机碳）和颗粒数

• 闭环循环：回收率可达85%的节水设计

• 温度控制：某些工艺要求水温保持在40±0.5℃

想找特定场景使用的产品？爱采购能根据需求精准匹配推荐。为您找到您心中的专属商品