光刻机中paris与tis区别

杭州宏恩光电有限公司

2026-06-18 04:00:37

杭州宏恩光电有限公司

法人:林恩军通过真实性核验

杭州宏恩光电，2009年成立于杭州上城区，专营泵、光刻机、钻床等，经验丰富，专业权威，业务广泛，品质可靠。

介绍：

本文解析光刻机中PARIS（投影对准实时成像系统）和TIS（透过率干涉测量系统）的核心差异，从工作原理、应用场景到精度要求，帮助读者理解两种关键子系统在芯片制造中的不同角色。

一、基础定位差异

PARIS（Projection Alignment Real-time Imaging System）和TIS（Transmission Interference System）就像光刻机的左右手：

两种系统采用截然不同的物理原理：

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