中国光刻机纳米级进展

杭州宏恩光电有限公司

2026-06-07 11:42:17

杭州宏恩光电有限公司

法人:林恩军通过真实性核验

杭州宏恩光电，2009年成立于杭州上城区，专营泵、光刻机、钻床等，经验丰富，专业权威，业务广泛，品质可靠。

介绍：

本文解析中国光刻机技术当前发展水平，从90纳米到28纳米工艺的突破路径，探讨国产光刻机在半导体产业链中的实际应用与未来技术攻关方向。

一、国产光刻机当前工艺节点

中国自主研发的光刻机目前可实现90纳米芯片量产，28纳米工艺验证机已完成技术攻关。上海微电子装备（SMEE）推出的SSA600系列采用深紫外（DUV）技术，能稳定生产90纳米芯片，在部分环节通过多重曝光技术可延伸至65纳米。28纳米光刻机原型机已通过内部测试，但良品率与生产效率仍需优化。

国内已形成从光学元件、精密导轨到光刻胶的配套体系，但高端镜头组仍需进口。28纳米光刻机涉及10万个零部件，目前国产化率约40%。中科院研发的投影物镜组已通过验证，杭州科汀的光刻胶可支持28纳米工艺，关键部件的突破为下一代光刻机奠定基础。

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