国产28nm光刻机量产了

一、技术突破的里程碑

2023年末，上海微电子交付首台28nm前道光刻机，标志着国产设备从90nm跨入28nm工艺节点。这台采用ArF光源的设备，通过多重曝光技术可实现等效28nm制程，良品率已达量产门槛。值得注意的是，其核心部件如物镜系统已实现自主化，但部分光学元件仍需进口。

二、量产进度的现实考量

目前该设备处于小批量验证阶段，已有3家晶圆厂进行导入测试。与成熟产品相比，其每小时曝光晶圆数（WPH）仍存在优化空间。产业链消息显示，2024年计划产能约10台/年，主要面向科研机构和特殊工艺产线，尚未进入主流代工厂的采购清单。

三、半导体格局的微妙变化

这台设备的问世使我国成为全球第三个掌握28nm光刻技术的国家。虽然短期内难以替代进口设备，但已能支撑特种芯片、汽车电子等领域的自主可控需求。其实际意义在于：当国际供应链波动时，国内28nm产线具备了应急替代方案，这是半导体产业链安全的重要拼图。

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