中国EUV光刻机现状

一、EUV光刻机的技术门槛

极紫外光刻机（EUV）是芯片制造皇冠上的明珠，目前全球仅荷兰ASML能量产。这种设备需要将锡滴激光轰击成等离子体，产生13.5nm波长的极紫外光，涉及10万+精密零件。中国在2018年曾通过某科研机构购入1台预商用机型，但未获得最新一代设备。

二、荷兰设备的采购困境

2023年荷兰政府跟随实施出口管制后，中国从ASML进口EUV设备的通道基本关闭。此前已交付的设备主要用于7nm以下制程研发，而国内现有设备多为深紫外（DUV）光刻机。技术封锁背景下，部分核心部件如物镜系统、真空腔体等仍依赖进口。

三、自主研发的破局尝试

上海微电子等企业正在攻关28nm制程的国产光刻机，中科院研发的「高能同步辐射光源」可为EUV提供替代方案。清华团队在2023年发表的《自然》论文中，展示了新型等离子体光源技术，理论上可突破现有波长限制，但距离工程化尚有距离。

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