193nm光刻机能做几纳米芯片

上海炜泰贸易有限公司

2026-04-23 11:41:20

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法人:王炜通过真实性核验

上海炜泰贸易有限公司，2014年成立于上海市，主营光刻机等，专业权威，经验丰富。

介绍：

本文揭秘193nm干式光刻机的工艺极限，解析其通过多重曝光技术实现28nm及以下制程的原理，并对比浸没式光刻的技术差异，帮助读者理解光刻机与芯片制程的微妙关系。

一、193nm干式光刻的物理极限

193nm干式光刻机就像用毛笔写微雕——理论分辨率约65nm。这是由光的衍射特性决定的：当光线通过掩膜版时会发生散射，使得投影到硅片上的图形边缘模糊。但工程师们开发出两项黑科技：

这让干式光刻实际可稳定生产45nm芯片，极限可达38nm。

要让193nm干式光刻机制造28nm甚至更小芯片，就得玩转多重曝光：

这些技术让193nm干式光刻机曾量产过28nm芯片，但良品率与效率已接近极限。

当芯片制程进入28nm时代后，浸没式光刻展现出明显优势：

如今193nm浸没式光刻已可量产7nm芯片，而干式光刻主要应用于特殊场景。

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