光刻机的光机结构解析

一、照明系统：光刻的起点

光刻机的照明系统就像舞台的聚光灯，为整个光刻过程提供稳定、均匀的光源。它主要由激光器、光束整形器和匀光系统组成，确保光线以理想的波长和强度照射到掩模上。

二、投影物镜：精度的关键

投影物镜是光刻机的核心部件，其作用类似于相机的镜头，但精度要求高出几个数量级。它负责将掩模上的图案精确缩小并投影到硅片上，目前先进的投影物镜可以实现纳米级的成像精度。

三、工件台：稳定的基石

工件台承载着硅片，在光刻过程中需要保持极高的稳定性和定位精度。现代光刻机的工件台采用磁悬浮技术，能够在高速运动下实现亚纳米级的定位精度，确保图案的精准转移。

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