中国光刻机起步史

一、60年代的微光初现

中国光刻技术的萌芽可追溯至1965年，中科院光电所研制出首台接触式光刻机。当时采用汞灯曝光，最小线宽仅20微米，相当于头发丝的三分之一粗细。这台用齿轮传动的设备虽然简陋，却奠定了国产光刻设备的三大基础：光学系统、精密机械和化学显影技术。

二、80年代的转型阵痛

改革开放后，国内开始引进日本尼康等公司的步进式光刻机。1984年上海微电子装备公司成立，尝试消化吸收国外技术。这一时期的特点是：实验室研究转向工业化生产，但关键部件如光学镜头仍依赖进口，国产设备精度停留在微米级。

三、新世纪的突破之路

2002年"十五"计划将光刻机列为重点攻关项目，上海微电子在2007年推出首台90纳米投影式光刻机。2016年长春光机所实现紫外光源突破，2018年清华大学研发的双工件台技术达到纳米级精度，标志着中国光刻技术进入新阶段。

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